聞訊趕來的黃市長代表東湖高新技術園區，願意有償劃撥500畝土地，享受高科技企業待遇，邀請曙光東芝電梯公司進入東湖高新技術園區，孫健愉快的接受了邀請。
二十天後，對外貿易部和工商總局審核通過和批準曙光東芝電梯公司的成立，鄧濤拿到了批文和營業執照。
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“中村太郎先生，曙光東芝晶圓公司擁有的6英寸晶圓、1製程工藝的半導體生產線已經滿足不了國內快速發展的半導體市場的需求，我建議合資公司投資引進一條東芝半導體公司生產的8英寸晶圓和500製程工藝的生產線。”
陳永清團隊一旦開發成功z-c3000，國內沒有晶圓公司能生產，隻能委托給台積電或三星晶圓公司，自從p在納斯達克成功上市後，孫健就計劃提前引進一條8英寸晶圓和500製程工藝的半導體生產線。
“孫董事長，我也讚成引進一條，但如今8英寸晶圓和500製程工藝的半導體生產線還在巴t組織的出口管製技術欄目中，我也做不了主，我請示公司總部後再答複孫董事長。”
“我等候中村太郎先生的好消息！”
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“孫董事長，非常遺憾，公司總部雖然也願意出口一條8英寸晶圓和500製程工藝的半導體生產線，但不能違反巴t組織協定，公司總部表示，一旦技術出口管製被取消，公司總部就立馬出口。”
二天後，中村太郎來見孫健。
日本是巴t組織的十七個成員國之一。
八七年，東芝旗下的機械公司曾向蘇聯出口大型數控機床的事件被曝光，引起美國朝野的震怒，直接針對東芝公司進行了嚴厲的製裁，並且向日本方麵提出賠償要求。
東芝公司為此花了1億多日元在紐約時報上發布“悔罪廣告”，才逃過一劫。
“中村太郎先生，非常遺憾，我隻能同其他半導體設備公司展開談判，引進一條8英寸晶圓和500製程工藝的半導體生產線，合資成立另外一家晶圓公司。”
孫健也理解東芝半導體設備公司的苦衷，但自己控股了，還參股了，光刻機的產業布局已經完成，還是雙保險！也不可能一直購買東芝半導體生產線，特彆是控股成功上市後，利用p賬上的閒置資金，同c再成立一家合資晶圓公司的打算。
一舉兩得！
隨著九一年蘇聯解體，美國遭遇經濟衰退，巴t組織就徹底的失去了存在價值，從九一年開始，中有資格從國外進口許多先進的設備；九三年十一月，巴t成員國的高級官員在荷蘭舉行會議，一致認為巴t組織已經失去繼續存在的理由，但何時解散？還需要老大拍板。
九四年愚人節這一天，巴t組織將被解散！
九六年將被瓦納協定代替，但重生者忘記了具體月份？
日本政府和東芝半導體設備公司也不知道巴t組織正式解散的準確日期？
重生者明白，這二年左右的寶貴時間就是國內一個難得的進口高新技術的窗口期，孫健還要耗費巨資，提前將c生產的8英寸晶圓和180製程工藝的半導體生產線引進來，借助於bc的雙工作台係統和浸潤式光刻係統，打破以美國為首的西方國家對國內進口半導體生產線的技術限製。
12英寸晶圓好像千禧年以後才問世！
東芝半導體設備公司本身也沒有能力生產半導體生產線中最核心的光刻機，隻能購買尼康和佳能生產的高端和中端光刻機，還購買其他半導體設備廠生產的設備，生產高端和中端半導體生產線。
昔日光刻機的龍頭老大c如今隻能批量生產8英寸晶圓和500製程工藝的光刻機，光刻機高端市場被生產8英寸晶圓和350製程工藝的尼康光刻機搶走，如今隻能在中端市場與佳能、日立、和l等競爭。
要想奪回光刻機的高端市場，c隻能靠光刻機半導體研究院研製成功適應8英寸晶圓和500製程工藝的磁懸浮式雙工作台係統，一舉突破8英寸晶圓和500製程工藝的瓶頸，研製成功8英寸晶圓和350製程工藝的光刻機。
重生者先後參股和 ，就是給c一個重獲新生的機會，幫助美國公司在光刻機上同日本公司競爭！
半導體產業是國家的經濟實力、科技實力和工業生產能力的綜合表現，成為國家的戰略產業，bc的技術實力比c相差甚遠，要不是在重生者的指導下研製成功光刻機雙工作台係統，與c談判的資格都沒有。
寄希望實行彎道超車，成為世界第一的光刻機公司隻是一種理想。
v光刻機堪比大型航空發動機，前世，舉國之力研製成功了大型航空發動機，但沒有研製成功v光刻機。
在重生者的目標中，將c打造成技術世界第一的光刻機公司，占據高端光刻機市場，將bc打造成中端光刻機公司，在中端市場占據一定市場份額。
重生者不是超人！
能否追上，隻能靠bc光刻機半導體研究院的科技人員了！
重生者要是將c的專利技術偷偷的拿過來送給bc，就等著坐牢！
重生者不想當英雄，更不願意當烈！
死過一次的人將名譽地位看得很澹。
與家人和朋友享受生活才是重生後最大的願望！
c重獲新生，不僅bc獲利，重生者也能在瓦納協定出台之前，有機會引進一條8英寸晶圓、180製程工藝的半導體生產線……
去年底，c在研製適合8英寸晶圓和500製程工藝的磁懸浮式雙工作台係統的過程中，由於在光刻機中安裝了一套 生產的新一代光學係統（耗資275萬美元），適合8英寸晶圓和500製程工藝的磁懸浮式雙工作台係統沒有研製成功，但光刻機樣機製程工藝突破500，達到350。
意外驚喜！
這款8英寸晶圓和350製程工藝的光刻機，被命名為c3500光刻機。
c3500光刻機追上了ko3500光刻機，由於安裝有磁懸浮式雙工作台係統，製程工藝精度和生產效率明顯超過了ko3500光刻機。
c3500光刻機突破了困擾了製程工藝光刻機的瓶頸！
孫健吩咐艾德裡安申請公司股票停牌，邀請tc專家組進行技術認證，拿到認證鑒定後，c3500光刻機製造技術分彆向美國專利局和世界專利局申請公司發明專利，邀請全球晶圓公司參觀c3500光刻機樣機。
由美國政府每年財政撥款1億美元資助的tc，宗旨就是提高美國國內半導體產業的技術。